El equipo CVD se refiere al equipo de deposición química de vapor, que es un dispositivo utilizado para preparar películas y materiales. Utiliza una reacción en fase gaseosa para depositar una capa muy fina de material en la superficie del material. Los equipos CVD se utilizan comúnmente para preparar materiales como grafeno, disulfuro de molibdeno y nitruro de boro.
En los equipos CVD, se necesitan componentes clave como cámaras de reacción, sistemas de calefacción y sistemas de suministro de gas. En el equipo, los gases químicos se envían a la cámara de reacción, donde se producen reacciones químicas a altas temperaturas para generar los materiales necesarios. El equipo CVD tiene las ventajas de alta estabilidad, alta cristalinidad, alta uniformidad y control del tamaño de grano.
Los equipos CVD son ampliamente utilizados. Tiene importantes aplicaciones en los campos de semiconductores, optoelectrónica, química y materiales. Por ejemplo, en la industria de los semiconductores, los equipos CVD pueden preparar obleas de silicio de alta pureza; en la industria química y de materiales, los equipos CVD pueden preparar recubrimientos y películas de alta calidad; en la industria optoelectrónica, los equipos CVD pueden preparar luz de alta calidad; diodos emisores.